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前世，Nikon费尽心机，在ASmL研究成功193nm浸没式光刻机二年后，也研制成功157nm激光器，攻克了193nm波长的世界级难题，研制成功65nm制程工艺光刻机，但光刻效果不如65nm制程工艺的ASmL浸没式光刻机好，Intel、台积电和三星等三家全球最重要的光刻机客户不买账，Nikon不得不另起炉灶，重新开始研发浸没式光刻机，Nikon技术实力雄厚，竟然也研制成功，但一去一回，耽误了三、四年的时间，高端光刻机市场被ASmL占据了，随着EUV光刻机面世，超高端光刻机市场也被ASmL垄断，日本举国之力也没有研制成功EUV光刻机，Nikon丧失了同ASmL竞争的资格，在中端光刻机市场混日子。
光刻机产业和晶圆制造产业都属于劳动密集型和资金密集型产业，优胜劣汰，前世全球只剩下3、4家！
bSEc将来能否研制成功EUV光刻机不是孙健操心的事情，尽力就够了！
累死了，痛苦会留给家人！
重生者也不想当什么英雄!
ASmL是否投巨资收购SVG？得到其157nm激光器需要配置的反折射镜头技术，早日开发成功157nm激光器，tIc作为战略投资者，不干涉ASmL的日常经营活动。
全球数码相机霸主canon看不上一年全球只有500台左右光刻机的生意，没有全心研发光刻机，但今年3月也研制成功180nm制程工艺的光刻机，如今正在研制90nm制程工艺的光刻机，技术水平排在全球第4位，在全球中低端光刻机市场占据5成的市场份额。
SVG在今年5月也研发成功180nm制程工艺的光刻机。技术水平在全球排第五位，在全球中低端光刻机市场占据2成。
bSEc还在研发180nm制程工艺的光刻机，借助于蓬勃发展的国内市场，占据全球中低端光刻机市场的3成，还拥有全球排名第一的磁悬浮式双工作台系统技术，综合实力同SVG并列第五。
研制12英寸晶圆、90nm制程工艺的光刻机比研发原子弹和卫星复杂的多，光刻机产业除了耗资巨大外，还需要技术积累和人才积累，这个时代的国内半导体产业链同美国和日本相比不是一个层次的竞争对手，bSEc不可能花费10年时间就能赶上GcA或Nikon，孙健从开始接手，就有清醒的认识，钱不是万能的！没有193nm波长这道世界级的难题阻挡，bSEc再花10年时间，也赶不上GcA和Nikon!
如今EUV LLc联盟同前世唯一不同的是，荷兰光刻机公司AmSL变成了美国光刻机公司GcA。
前世，ASmL为了进入EUV LLc联盟，不得不答应美国政府提出的苛刻条件，包括在美国境内建厂、建立研发中心，制造出来的EUV光刻机中有55%的零件必须由美企采购。
EUV光刻机中至少有一半技术来自美国高科技公司，这是ASmL永远绕不过去的专利技术。
90nm制程工艺的bSEc光刻机不量产，bSEc不会申请浸没式光刻机技术的公司发明专利。
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